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Cones de feixe de íons
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Cones de feixe de íons

Os cones de feixe de íons SIKAIDA são componentes cerâmicos de alta precisão para implantação de íons semicondutores. Fabricados com alumina de altíssima pureza, nitreto de silício e óxido de zircônio por meio de moldagem por injeção de precisão e sinterização em alta temperatura, esses cones possuem pureza excepcional, estabilidade térmica, precisão geométrica e acabamento superficial, garantindo transmissão de feixe de íons estável e uniforme.

Os cones de feixe de íons SIKAIDA são componentes essenciais dos sistemas de implantação e transmissão de feixe de íons. Feitos de materiais cerâmicos avançados de alta pureza e processados ​​através de moldagem por injeção de precisão e sinterização em alta temperatura, eles apresentam teor de impurezas extremamente baixo, resistência a altas temperaturas e precisão dimensional estável. Eles podem ser usinados em geometrias complexas para atender a requisitos de tolerância extremamente altos, tornando-os adequados para processos de implantação de íons semicondutores de alto desempenho.


Como fabricante profissional na China, a SIKAIDA fornece cones de feixe de íons confiáveis, econômicos e personalizáveis ​​para clientes em todo o mundo nas áreas de semicondutores, telas planas, óptica, sistemas microeletromecânicos (MEMS) e energia solar. SIKAIDA é um fornecedor confiável de longo prazo e uma fábrica dedicada para componentes de processo de feixe de íons de alta qualidade.

Materiais e Fabricação

1. Materiais

Ion Beam Cones usa materiais incluindo alumina (Al₂O₃) com pureza ≥99,9%, nitreto de silício (Si₃N₄) com pureza ≥99,5%, óxido de zircônio (ZrO₂) com pureza ≥99,8% e sílica fundida (99,999%). Todos os materiais atendem aos rigorosos padrões de pureza da indústria de semicondutores e são adequados para os requisitos de desempenho de diversas aplicações.


2. Processo de Fabricação

O processo de fabricação abrange moldagem por injeção de precisão, sinterização em alta temperatura, usinagem CNC de precisão, polimento em nível de espelho e limpeza e testes automatizados. Cada processo é rigorosamente controlado quanto à precisão e qualidade para garantir que o produto final atenda aos padrões da indústria e aos requisitos do cliente.

Parâmetros principais do produto

1. Precisão Dimensional

Os cones de feixe de íons têm tolerâncias controladas dentro de ± 0,05 mm, rugosidade da superfície Ra≤0,4 μm, precisão de conicidade do furo interno ± 0,02 mm, coaxialidade ≤0,03 mm e perpendicularidade ≤0,02 mm. Esta precisão dimensional extremamente alta garante efetivamente a precisão da transmissão do feixe de íons.


2. Tratamento de superfície

Os tratamentos de superfície incluem polimento mecânico para um acabamento espelhado, revestimentos curados por UV para melhorar as propriedades da superfície, revestimentos resistentes a arranhões para melhorar a resistência ao desgaste e decapagem ácida e passivação para remover impurezas e melhorar a estabilidade. Métodos de tratamento apropriados podem ser selecionados com base nos requisitos da aplicação.


3. Indicadores de desempenho

Os cones de feixe de íons operam em uma faixa de temperatura de -196°C a +800°C, garantindo operação estável em ambientes com temperaturas extremas. Possuem resistividade volumétrica ≥10¹⁴Ω·cm e resistividade superficial ≥10¹²Ω, exibindo excelentes propriedades de isolamento. Eles também possuem excelente resistência à corrosão química e de plasma, permitindo-lhes adaptar-se a ambientes de processos complexos.

Principais vantagens

1. Pureza ultra-alta: A pureza da matéria-prima excede 99,9%, minimizando a contaminação de wafers semicondutores, garantindo desempenho elétrico estável dos dispositivos e atendendo aos rigorosos requisitos de pureza da fabricação de semicondutores.

2. Precisão geométrica extremamente alta: Garante dimensões consistentes do produto durante a produção em massa, com erro de conicidade controlado dentro de ± 0,05 mm e erro de circularidade ≤ 0,02 mm, correspondendo precisamente aos requisitos de instalação e uso de sistemas de transmissão de feixe de íons.

3. Qualidade de superfície semelhante a um espelho: Rugosidade da superfície Ra≤0,4μm, reduzindo efetivamente a dispersão do feixe de íons, melhorando a uniformidade da transmissão do feixe de íons e otimizando ainda mais a precisão de implantação de dispositivos semicondutores.

4. Estabilidade em ampla faixa de temperatura: Opera de forma estável em ambientes criogênicos profundos a ambientes de alta temperatura. O material possui baixíssimo coeficiente de dilatação térmica, mantendo excelente estabilidade dimensional mesmo com variações de temperatura, evitando impactos no desempenho decorrentes de oscilações de temperatura.

5. Excelente isolamento e resistência à corrosão: evita efetivamente o acúmulo de carga durante a transmissão do feixe de íons e resiste a ácidos fortes, álcalis fortes e várias corrosões de plasma, garantindo uma operação estável a longo prazo em ambientes de processos complexos.

Serviços Personalizados

Os modelos e tamanhos dos produtos podem ser personalizados de acordo com os diferentes requisitos do processo. Os formatos de desenho suportados incluem STP, STEP, IGS, XT, DXF, DWG, PDF e amostras físicas. Em relação ao tempo de entrega, a entrega da amostra é de 4 a 7 semanas e a entrega do produto em lote é de 8 a 12 semanas. Nosso sistema de qualidade está em conformidade com os padrões ISO9001:2015, SGS RoHS, REACH e SEMI, garantindo de forma abrangente a qualidade do produto e a eficiência de entrega.

Áreas de aplicação

Os cones de feixe de íons são amplamente utilizados em vários campos, incluindo implantadores de íons na fabricação de semicondutores, equipamentos de processamento em monitores de tela plana, sistemas de deposição de feixe de íons (IBD) e gravação de feixe de íons (IBE) na fabricação de dispositivos ópticos, fabricação de sistemas microeletromecânicos (MEMS), equipamentos de dopagem de íons para células solares e processos de implantação de íons para dispositivos semicondutores de potência, como transistores bipolares de porta isolada (IGBTs) e MOSFETs de potência.

Perguntas frequentes:

Q1: Quais materiais são normalmente usados ​​em cones de feixe de íons?

A1: Usamos principalmente materiais cerâmicos avançados, como alumina de alta pureza (Al₂O₃), nitreto de silício (Si₃N₄) e óxido de zircônio (ZrO₂). Esses materiais possuem pureza extremamente alta, excelente resistência a altas temperaturas e propriedades elétricas estáveis.


P2: A UET pode fornecer especificações personalizadas e tratamentos de superfície? 

A2: Sim. A UET pode personalizar o tamanho, a conicidade, o tipo de material e o tratamento de superfície dos cones de acordo com os requisitos do seu processo. Temos ampla experiência em fabricação e podemos atender aos requisitos de aplicação específicos dos clientes.


Q3: Como é garantida a precisão e a qualidade dos cones de feixe de íons?

A3: Adotamos o sistema de gerenciamento de qualidade ISO9001: 2015 e estamos equipados com equipamentos de teste de alta precisão, incluindo uma máquina de medição por coordenadas, testador de rugosidade superficial e espectrômetro de fluorescência de raios X, para garantir que cada lote de produtos atenda aos rigorosos padrões da indústria.


Q4: Qual é o ciclo de entrega?

A4: O ciclo de entrega da amostra é de 4 a 7 semanas e o ciclo de entrega do produto em lote é de 8 a 12 semanas. O ciclo específico depende da complexidade do produto e da quantidade do pedido.

Hot Tags: Cones de feixe de íons, China, fabricante, fornecedor, fábrica
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